Микроинтерферометр - линник - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Жизненный опыт - это масса ценных знаний о том, как не надо себя вести в ситуациях, которые никогда больше не повторятся. Законы Мерфи (еще...)

Микроинтерферометр - линник

Cтраница 2


При изучении влияния на износ зубьев свойств масел глубина образующихся рисок дри качественных маслах обычно не превышает 1 мк за 50 часов испытания. Для определения такого износа разрешающей способности микроинтерферометра Линника ( МИИ-4) вполне достаточно. В случае большего износа и более грубых изменений шероховатости возможно применение двойного микроскопа Линника.  [16]

Профилометры применяются для оценки чистоты поверхности в пределах 5 - 12-го класса чистоты. Оценка чистоты поверхности 10 - 14-го классов осуществляется микроинтерферометрами Линника.  [17]

Для изучения чистоты обрабатываемой поверхности и измерения глубины царапины на ней служит микроинтерферометр Линника. В основе работы прибора положен метод интерференции лучей от эталонного образца - гладкого зеркала Вг ( рис. 189, а) и исследуемой поверхности А. Картина интерференции наблюдается в окуляре Ок. На рис. 189, а лучи от источника F падают на полупрозрачную пластинку Р и разделяются на два луча. Луч / попадает на исследуемый образец А и отражается от него. Луч 2 падает на эталонный образец - зеркало Bt и также отражается.  [18]

Левина, световые профилограммы, снятые на двойном микроскопе Линника и интерферограмма, полученная на микроинтерферометре Линника.  [19]

Тонкий слой серебра весьма четко проявляет структуру лежащей под ним поверхности глазури; очень наглядно выступают все дефекты поверхности: микротрещины, посторонние включения, шероховатости, следы разрядов ( для высоковольтных фарфоровых изоляторов) и пр. Структура посеребренной поверхности глазури изучается так же, как и структура металлических поверхностей, с помощью двойного микроскопа Линника, поляризационного микроскопа, микроинтерферометра Линника, а также путем измерения коэффициентов отражения на различных рефлексометрах.  [20]

Рост пленок NiCr2S4 происходил при условиях: нагрев подложки до температуры 473 - 573 К со скоростью осаждения 20 А / сек, температура испарителя - 1970 - 2070 К, вакуум в камере - 5 - 10 - - 5 тор. Толщина пленок, измеренная на микроинтерферометре Линника МИИ-4, составляла от 500 до 3000 А.  [21]



Страницы:      1    2