Cтраница 3
Сочетание возможностей метода термического разложения МОС и электронно-лучевой технологии открывает возможность изготовления защитных и диффузионных масок без применения фотолитографических приемов, без использования операции химического травления. [31]
Автоматизация проектирования БИС предполагает: организацию дешевого и быстрого машинного проектирования; автоматическое изготовление масок и фотошаблонов; максимальную стандартизацию технологических процессов изготовления структур БИС с целью сокращения расходов на их производство; автоматизацию технологического и выходного контроля. [32]
Возможность создания графических примитивов позволяет использовать окно Tille не по назначению - для изготовления масок. Маска это прием, который достаточно часто используется при создании видеофильмов. [33]
Ожидается, что непосредственное применение в промышленности голографическая микроскопия найдет при решении задачи изготовления микроэлектронных масок. До настоящего времени для этих целей использовались высококачественные, необычайно сложные и дорогостоящие объективы. Такие объективы должны иметь большую разрешающую способность по всему полю зрения, которое может быть чрезвычайно большим. Кроме того, возникает необходимость многократного впечатывания изображения на соседние участки материала. [34]
Руководитель занятия, используя образец противо-пыльной тканевой маски и ее выкройку, обязан научить обучаемых изготовлению маски в домашних условиях. Приспособление повседневной одежды и обуви для защити кожи от радиоактивной пыли проводится руководителем лутем показа с использованием заранее подготовленного комплекта одежды и обуви. [35]
Нанесение пасты через трафарет. [36] |
При износе эмульсионного слоя фоторезист удаляется раствором перекиси водорода, а сетку можно вновь использовать для изготовления масок. [37]
Устройство для изготовления графиков, управляемое ЦВМ, дает как первоначальный рисунок схемы, так и рисунок, пригодный для изготовления масок. [38]
К материалам масок, удовлетворяющим перечисленным требованиям, относятся медные сплавы, сталь, молибден, бериллиевая бронза и др. Для изготовления масок используют фотохимический метод, электроэрозионную обработку, обработку электронным лучом. При выборе того или иного метода изготовления масок необходимо учитывать объем выпуска микросхем. [39]
Устранение неоднозначности считывания по методу сдвоенных щеток. [40] |
Чувствительные элементы можно расположить на одной прямой, но тогда необходимо каждую из дорожек второго и более высоких разрядов разделить на две дорожки, а затем сдвинуть их относительно дорожки младшего разряда, одну на L / 2 влево, а другую - вправо, Это делается при изготовлении маски. В случае В неоднозначность при считывании возможна только в младшем разряде. [41]
Масочные ПЗУ емкостью 256К бит могут изготавливаться по МОП - и КМОП-технологии; недостатком этих ПЗУ является недостаточная гибкость, определяющая нерациональность их практического использования, если речь не идет об очень широкомасштабных применениях. Затраты на изготовление масок и время, требуемое для производства масочных ПЗУ, препятствуют их применению в ситуациях, когда заносимые в них программы могут содержать невыявленные ошибки или когда разработка системы должна быть проведена в сжатые сроки. [42]
Schablone - образец, модель) - негативное или позитивное фотоизображение в натур, величину на пластинке или пленке оригинала интегральной микросхемы или печатной платы микромодуля. Используется для изготовления масок микросхем и для получения заготовки печатных плат микромодулей. [43]
Применение свободных масок, изготовленных по любому методу, имеет ряд принципиальных ограничений. С усложнением технологии изготовления маски увеличиваются затраты на ее создание, тогда как число напылений, которое можно произвести через такую маску, сокращается до 3 - 5 из-за быстрого их износа. [44]
Изготовление напылительных масок гальваническим методом. [45] |