Cтраница 2
В данной графе даны потенциалы анодного активирования. [16]
В результате было установлено, что анодное активирование стали I2XI8HIOT практически во всех исследованных хлоридипс растворах сопровождается интенсивным выделением водорода и между плотностью анодного тока и количеством выделяющегося водорода наблюдается прямо пропорциональная зависимость, характерная для проявления отрицательного дифференц-эффекта. В этих растворах, так же как и в растворах, содержащих хлорид только одного металла [4], отрицательный дифференц-эффект проявляется как в режиме локального, так и делокализованного анодного активирования. [17]
Перед хромированием стальные и чугунные детали подвергаются анодному активированию в хромовом электролите при температуре, соответствующей процессу хромирования. После анодного активирования промывка водой не производится, поэтому в ряде случаев износостойкого хромирования анодное активирование можно производить в хромировочной ванне после прогрева деталей, непосредственно перед хромированием. Включение тока производится рубильником - переключателем полюсов. [18]
Перед хромированием стальные и чугунные детали подвергаются анодному активированию в хромовом электролите при температуре, соответствующей процессу хромирования. После анодного активирования промывка водой не производится. [19]
Изменение плотности анодного тока во времени исследованных сталей, напряженных до 0 8e - Q 2, в 20 -ном растворе Н ЗО о. [20] |
В выбранных условиях наиболее вероятным механизмом коррозионного растрескивания является локальное анодное активирование пассивной поверхности сталей под действием хлор-иона, хемосорбиро-ванного на поверхности. Время до появления трещин определяется конкуренцией процессов пассивации и депассивации, происходящих на поверхности сталей. Стали с лучшими пассивационными характеристиками более устойчивы к растрескиванию, чем стали с более низкой устойчивостью пассивного состояния. [21]
С увеличением содержания углерода склонность хромистых чугунов к процессу анодного активирования снижается. В то же время следует отметить, что для чугунов с содержанием хрома 17 20 % влияние углерода на процесс анодного активирования носит экстремальный характер. [22]
При ЭХО в хлоридном и бромидном электролитах ( в условиях анодного активирования) влияние различной электрохимической активности составляющих стали проявляется наиболее существенно. При низких значениях плотности тока в прианодном пространстве не может образоваться достаточно плотного слоя из продуктов процесса, который способствует выравниванию активностей структурных составляющих сплава. [23]
Такое прочное сцепление обусловлено выполнением наиболее важной операции подготовки детали - анодного активирования в хромовом электролите. При растяжении стального образца, хромированного без анодного активирования, хром полностью отслаивается на границе с основным металлом. При шлифовании такое покрытие отслаивается. [25]
Анодные потенпяодинамическне кривые исследованных сталей, напряженных до 0 8 бЬ, в растворах хлорида цинка при температу. [26] |
Основной причиной коррозионного растрескивания исследованных сталей в растворах серной кислоты с добавками хлоридов является локальное анодное активирование пассивной поверхности сталей. [27]
Приближение состава пассивирующей фазы к Ni3O4, по-видимому, и приводит к появлению возможности анодного активирования металла. [28]
Если перерыв подачи тока все же произошел, то перед повторным хромированием изделия подвергаются анодному активированию в хромовом электролите в течение 20 - 40 с при плотности тока 25 - 30 А / дм2 и только после этого продолжают хромирование. Осаждение хрома после перерыва подачи тока следует начинать с относительно низких катодных плотностей тока ( но не ниже 20 - 25 А / дмг) и постепенно увеличивать их до установленного значения. [29]
На анодных характеристиках хромистых чугунов отсутствует область пассивности и потенциал коррозии расположен в области потенциалов анодного активирования. С увеличением содержания хрома ветвь анодного активирования смещается в направлении положительных значений потенциала. [30]