Область - катодное падение
Cтраница 1
Область катодного падения, включающая в себя круксово темное пространство и область отрицательного тлеющего свечения и представляющая существенную часть самостоятельного разряда. Электрическое поле должно быть очень интенсивно в круксовом темном пространстве и ускорение электронов в этом поле должно быть достаточным, чтобы вызвать ионизацию в области отрицательного тлеющего свечения, обеспечивающую эмиссию с катода ионной бомбардировкой и фотоэлектрическим эффектом, равную начальной эмиссии. [1]
В области катодного падения наряду с молекулярными положительными ионами образуются быстрые атомы с энергией, приблизительно равной энергии ионов, из которых они образованы. Хотя в литературе практически отсутствуют данные об эффективности катодного распыления под действием атомов, нет оснований ожидать, что оно заметно отличается от эффективности распыления ионами той же энергии. Существует, однако, одна особенность распыления под действием атомов. Не имея заряда, атомы могут попадать на такие поверхности, на которые ионы не могут попадать из-за наличия задерживающего поля. [2]
 |
Распределение потенциала в диоде с накаливаемым катодом при различных давлениях газа в приборе. [3] |
В области катодного падения потенциала и происходит почти все падение напряжения на лампе. [4]
 |
Типичные профили напряжения в дуге постоянного тока с графитовыми электродами. [5] |
Между областями анодного и катодного падения находится однородная зона дугового столба, в которой происходит джоулев нагрев. На рис. IX.2 а приведен типичный профиль напряжения в относительно слаботочной свободногорящей дуге с графитовыми электронами. [6]
Это - область поднормального катодного падения, при котором разряд часто делается прерывистым. [8]
Скорость движения электронов в области катодного падения много больше скорости движения положительных ионов, и мы можем с достаточным приближением принять, что плотность тока б определяется только плотностью электронов. [9]
Электроны, ускоренные в области катодного падения потенциала до энергий 50 - 90 эВ, быстро термолизуются в соответствии с распределением Максвелла и увеличивают ионизацию плазмы. [10]
Однако вследствие малых размеров области катодного падения и практически неограниченной протяженности положительного столба суммарная скорость реакции, протекающей в столбе, может значительно превысить скорость реакции вблизи катода. Поэтому проведение реакции преимущественно в положительном столбе практически более целесообразно. [11]
 |
Теоретическая кривая зависимости катодного падения от плотности тока. ( То и другое выражено в безразмерных величинах. [12] |
Так как на границе области катодного падения продольный градиент потенциала в разряде чрезвычайно мал или даже имеет обратное направление вследствие диффузии электронов, то количество положительных ионов, проникающих в область катодного падения из частей разряда, лежащих дальше от катода, ничтожно мало или равно нулю. [13]
 |
Вольт-амперные характеристики плавящей дуги на разреженных парах металлов в ВДП. [14] |
У первых электронный ток в области катодного падения практически полностью обусловлен механизмом автоэлектронной эмиссии. Поэтому здесь наблюдаются четко выраженные катодные пятна. В частности, на стали плотность тока в катодных пятнах достигает 4 5 - 5 ка / см2, а температура в пятнах ( 2 7ч - 3) Х Х103 С. Установлено, что с увеличением тока растет и площадь ка / - тодных пятен, что приводит к выводу о постоянстве для каждого металла в данных условиях величины плотности тока в катодном пятне. [15]
Страницы: 1 2 3 4 5