Плотность - мощность - излучение
Cтраница 2
Однако более предпочтительным является использование плоского кристалла, позволяющего увеличить плотность мощности излучения при уменьшении размера кристалла. Излучение может выводиться в торец и через верхнюю поверхность кристалла, причем для сбора бокового И К излучения, имеющего наибольшую плотность, кристалл помещается в фокусе параболического отражателя. [16]
Из анализа формул (4.4), (4.6) следует, что расходимость и плотность мощности излучения можно изменять в широких пределах, меняя радиус кривизны R выпуклого зеркала и расстояние / от зеркала до выходной апертуры АВ. Когда R на два порядка меньше расстояния I, расходимость пучка реал становится близкой к дифракционному пределу: реал ( 2 - г - 3) диф. Увеличение расстояния I не всегда оказывается целесообразным, так как при этом из-за ограниченности времени существования инверсии существенно снижается мощность излучения. [17]
С точки зрения применения лазера для целей микрообработки материалов важным параметром является плотность мощности излучения в пятне фокусировки. Левые ветви кривых, наоборот, соответствуют более быстрому падению мощности по сравнению с площадью. Для АЭ ГЛ-201 с прямой схемой исполнения модулятора накачки максимум плотности мощности приходится на R - 3 см ( 1 отн. [18]
Способность ЛПМ к выполнению прецизионной микрообработки во многом зависит от качества пучка и плотности мощности излучения. Высокое качество пучка ( минимальная расходимость, высокая стабильность оси диаграммы направленности, четкая граница сфокусированного пятна и, следовательно, равномерное распределение интенсивности в дальней зоне) определяет и высокое качество микрообработки. [19]
При обработке непрерывными лазерами при постоянной скорости обработки глубина и ширина ЗТВ зависят от плотности мощности излучения, с ростом которой глубина ЗТВ растет, а ширина - уменьшается. При постоянной плотности мощности с увеличением скорости перемещения деталей уменьшаются как ширина, так и глубина ЗТВ, что связано со снижением удельной энергии излучения в зоне лазерного воздействия. [20]
 |
Влияние плотности мощности лазерного излучения на параметры ЗТВ. [21] |
Очевидно, с точки зрения получения максимальной толщины равномерно упрочненного слоя обработку следует вести при Кп 0 6 и повышенных уровнях плотности мощности излучения. [22]
Наблюдение вынужденного рассеяния Мандельштама-Бриллюэна в волоконных световодах имеет место уже при малой мощности вводимого в них излучения, поскольку, вследствие малости поперечных размеров сердцевины световодов, плотность мощности излучения в них достигает больших значений. [23]
Газовые активные среды, как правило, отличаются высокой оптической однородностью, что позволяет достигать уровня расходимости, близкого к дифракционной, и обеспечивать локальность воздействия и высокие значения плотности мощности излучения в фокальном пятне. Сравнительно невысокие плотности среды в газовых лазерах определяют весьма низкие значения ширины линии усиления. Поэтому им свойственна высокая монохроматичность излучения. [24]
Генерация получена при накачке моноимпульсным излучением лазера на ИАГ Nd3, работавшего на низшей поперечной моде плоского резонатора в одномодовом по продольному индексу режиме. Плотность мощности излучения накачки достигала 20 - 30 МВт / см2; дальнейшее ее увеличение связано с риском поверхностного разрушения материала. Таким образом, режим генерации был близок к квазистационарному. [25]
Вт / см2 плотность дислокаций достигает 10е см 2 - Наблюдаются одиночные дислокации и сплетения дислокаций, свидетельствующие об их взаимодействии. С ростом плотности мощности излучения до 2 7 НО4 Вт / см2 средняя плотность дислокаций возрастает до 1010 см-2 и более, причем наблюдается образование дислокационных сеток. При дальнейшем повышении плотности мощности до 8 104 Вт / см2 ( уровень, соответствующий плавлению материала) в материале возникает ячеистая дислокационная структура с плотностью дислокаций в границах ячеек до 1011 - 1012 см-2. Подобная структура характерна для сильно деформированных металлов. [26]
С другой стороны, особенно в случае коротких импульсов, столь интенсивное протекание процессов обработки затрудняет контроль и автоматическое регулирование параметров излучения отдельного импульса, при которых обеспечивается заданный ритм воздействия на деталь. В то же время даже небольшие вариации плотности мощности излучения могут приводить к заметному снижению качества выполнения технологических процессов, особенно при обработке миниатюрных деталей. [27]
 |
Частотные характеристики лазерного гироскопа. J - идеальная ( Д в jfQcoe. 2, 3 - теоретические [ Avt. K ( Qs Q Vs cos ], 4 - область реальной характеристики. [28] |
При этом весь световой поток, приходящий на экран, в обычном проекторе должен пройти через микрообъект или отразиться от него. Это означает, что при заданном освещении экрана плотность мощности излучения на объекте, пропорциональная квадрату линейного увеличения, при очень большом увеличении приводит к перегреву объекта или даже к его разрушению. [29]
Влияние степени фокусировки на геометрические параметры наплавляемых валиков неоднозначно. С уменьшением степени фокусировки при постоянной мощности снижается плотность мощности излучения, что приводит к уменьшению количества расплавленного порошка и высоты расплавленного валика. Ширина же валика первоначально возрастает за счет увеличения размеров пятна излучения, а затем уменьшается. [30]
Страницы: 1 2 3