Изготовление - дифракционная решетка
Cтраница 2
Современная техника изготовления дифракционных решеток, в частности, разработанная в ГОИ лауреатом Ленинской премии Ф. М. Герасимовым, позволяет получать эшелетты как для ультрафиолетовой, так и для видимой области спектра. [16]
Современная автоматизация металлорежущих станков, охватывающая станки не только среднего машиностроения, но и тяжелого, требует измерения перемещений на больших длинах, достигающих несколько метров. Однако технически не представляется возможным изготовление дифракционных решеток на значительной ширине. [17]
Фотолитография - ключевой этап в производстве интегральны. Фоторезисты широко используют в полиграфической промышленности, для изготовления дифракционных решеток и мн. [18]
По технологическим соображениям для N1 рекомендуется выбирать значения -: 0 5; 1; 2; 4; 6; 8; 12; 24; 50; 75; 100; 150; 200; 300; 600; 1200; 1800 и 2400 штрих / мм. Следует иметь также в виду, что трудности изготовления дифракционной решетки возрастают по мере увеличения Л, поэтому нежелательно выбирать Л 600 штрих / мм; решетки с N1 1200 штрих / мм еще могут быть серийными, но решетки с N1 1800 и 2400 штрих / мм уже являются уникальными. Желательно использовать k 1, так как работа в более высоких порядках спектра хотя и выгодна из-за большей разрешающей силы, но связана или с применением фильтров ( которые не всегда гасят нерабочие порядки спектра) или скрещенной дисперсии, ведущей к усложнению прибора. [19]
Амин - крайняя длина волны фиолетового света. Верхний же предел общего числа штрихов ставится техническими возможностями изготовления дифракционных решеток. [20]
Муаровый интерферометр с решетками описанного типа широко применяется в автоматических устройствах, связанных с точными измерениями линейных и угловых перемещений. На этой основе созданы делительные машины с интерференционным управлением для изготовления дифракционных решеток, универсальные измерительные микроскопы с цифровым отсчетом, компараторы, длиномеры, генераторы изображения и фотоповторители для изготовления фотошаблонов микроэлектронных схем, стереокомпараторы для измерения координат, приборы для гамма-резонансного анализа и ряд других точных измерительных устройств. Часть этих приборов выпускается серийно. [21]
На основе открытия был сделан ряд изобретений, на которые Ю. Н. Денисюку выданы авторские свидетельства. На базе этих изобретений разработаны методы исследования деформаций деталей в машиностроении, контроля поверхностей деталей сложной формы, выполнения объемных портретов, изготовления дифракционных решеток и многие другие. [22]
Во-вторых, если голограмма записана путем изменения геометрического рельефа поверхности, то она может быть покрыта тонким отражающим свет слоем алюминия, серебра или иного материала, и, таким образом, при восстановлении изображения ее можно освещать светом любой длины волны. Данное свойство отражательных голограмм особенно полезно при изготовлении голографи-ческих дифракционных решеток. [23]
Дисперсия и разрешающая сила дифракционных решеток возрастают прямо пропорционально порядку спектра. Однако широкому использованию решеток для работы в высоких порядках до недавнего времени препятствовали два обстоятельства: наложение спектров разных порядков и усиление интенсивности духов Роуланда в высоких порядках спектра. Последнее препятствие в настоящее время устранено усовершенствованием технологии изготовления дифракционных решеток. [24]
Для молекул СН3СООН, СН3ОН, COF2, ( H2CO) 3 генерирующих в диапазоне длин волн 200 - 900 мкм необходимо использовать дифракционную решетку с 2 штр. При генерации ГЛОН на таких активных средах как СН3ОН, CF3Br, CD2F2 в диапазоне длин волн 900 - 2500 мкм необходимо применять зеркало с отверстием связи, так как изготовление дифракционных решеток с малым числом штрихов ( мен ее 2) сложно. [25]
 |
Зеркальные резонансы на решетке типа жалюзи (. - поляризацня, 6 2. а - ф 0, ф 60. б - ф 70, ф 45. [26] |
Ошибки, допущенные при изготовлении периодических решеток различной конфигурации, которые широко используются в приборах и устройствах современной радиофизики, электроники, оптики, часто приводят к небольшому сбою их периода. При периодическом сбое, влекущем за собой N-кратное увеличение общего периода решетки, в картине поля, рассеянного такой структурой, появляются N - 1 новых дифракционных спектров. Считается, что влияние ( интенсивность) этих дополнительных спектров ( духов решеток) невелико при малых сбоях. Работа в этих областях изменения значения частотного параметра ( проведение экспериментов, измерений) даже при незначительных погрешностях в изготовлении дифракционных решеток может привести к результатам, далеким от ожидаемых. [27]
Страницы: 1 2