Анализ - пленка
Cтраница 3
Пленки состава 60: 40, отлитые при 160 С, тверже пленок, полученных с другими пластификаторами при прочих равных условиях. Чтобы получить представление о летучести тетрилового спирта в процессе пленкообразования при 100, 130 и 160 С, были проведены анализы пленок, отлитых из трех названных типов поливинилхлорида. [31]
Спектральный анализ пленки полимера для этой цели проводят редко, поскольку соединения, относящиеся к пластификаторам, обладают интенсивными полосами поглощения, что в сочетании с их большим содержанием в полимере ( до десятков процентов) требует приготовления для анализа пленок очень малой толщины, что весьма затруднительно. Поэтому для прямого анализа обычно используют растворы полимеров. [32]
Существует ряд гипотез по поводу природы частиц, формирующих эту пленку. Предполагают, что образование пленки связано либо с оксидами, либо с карбидами железа, либо с графитом. Рентгеноспек-тральный анализ пленок в твердом состоянии показал, что их структура зависит от химического состава стали. [33]
 |
Зависимость скорости осаждения пленок окиси алюминии от скорости и состава потока гааа-носителя ( объсмн. %. [34] |
Газообразные продукты, образующиеся при разложении изонропилата алюминия в азоте, вероятно, аналогичны продуктам, получаемым при разложении тетраотоксисилапа. В кислороде же могут также образоваться пары воды. ИК - анализ пленок А1203 не показал наличия адсорбцпонпо связанной воды, и, таким образом, если вода и образуется в ходе разложения, то она не входит в состав осаждаемой пленки. [35]
Но в огромном большинстве случаев, встречающихся на практике, испытание пленок производится весьма легко и просто. Этому содействует то обстоятельство, что пленку, как правило, образует только один металл, который и требуется определить. Ниже приведены примеры анализа пленок. [36]
Подробное описание методик приводится в ряде работ. Доул, Милиер и Вильяме46 описывают методики, которые они использовали для определения концентраций двойных связей при комнатной температуре и при - 130 С. Эти авторы сопоставили свои данные, полученные методом ИК-спектроскопии, с результатами хими -, ческого анализа необлученных пленок. Пленка из высококристаллического полиэтилена марлекс-50 не растворяется в ССЦ даже при температуре кипения этого растворителя, тогда как полиэтилен низкой плотности в этих условиях растворяется. [37]
 |
Диффузия цинка в. [38] |
Послойный анализ пленки арсенида галлия толщиной около 300 мкм, выращенной с помощью транспортной реакции в парах воды, позволил установить, что по всей толщине пленки до переходного слоя пленка - подложка содержалась примесь молибдена, внесенная из арматуры установки. Анализ пленки арсенида галлия толщиной 50 мкм, выращенной с использованием транспортной реакции в парах воды на поверхности германиевой подложки, показал, что германий проникает в толщу пленки зо время ее выращивания. [39]
Чаще всего используется метод базисной линии, позволяющий исключить влияние неизбирательного поглощения и в некоторых случаях частичное наложение полос компонентов смеси на полосу поглощения, выбранную для анализа. При этом, если поглощение образца измеряется на однолу-чевом приборе, нет необходимости регистрировать интенсивность излучения, прошедшего через растворитель. Это сокращает время анализа и исключает ошибки, обусловленные нестабильностью источника излучения. Метод базисной линии особенно удобен для анализа пленок, таблеток или эмульсий. [40]
Имеются данные по осаждению из паровой фазы нпхромовых пленок. Нихромо-вые пленки получались также термическим разложением смеси органических соединений никеля п хрома [115] и использовались для изготовления ие-проводочпых резисторов среднего номинала. Наиболее пригодной является смесь компонентов: 70 % хроморгапического и 30 % ипкель-оргал ического соединений. При анализе пленок оказалось, что при указанном составе исходной смеси состав пленки несколько отличается от него, а именно содержит 60 % хрома к 40 % никеля. Оптимальная температура возгонки исходных веществ составляла 140J С, а оптимальный интервал температуры разложения - 480 - 500 С при вакууме 10 1 - 10 - 2 мм рт.ст. ТКС пленки, полученной в оптимальных условиях, лежит в пределах 2 5 10 - 4 град 1 в области положительных температур и 3 - 10 - 4 град 1 в области отрицательных температур. Отмечается, что стабильность нихромовых пленок удовлетворяет предъявляемым требованиям. [41]
Страницы: 1 2 3