Cтраница 1
Изготовление фотошаблонов электронно-лучевым методом возможно несколькими способами. [1]
Последовательность изготовления фотошаблона. [2] |
Изготовление фотошаблона начинают с вычерчивания оригинала, представляющего увеличенное в 200 - - 1000 раз рабочее изображение схемы. [3]
Основные этапы фотолитографии по кремнию.| Этапы изготовления фотошаблона под окна для омических контактов ( 4 - 53, в. Масштабы не выдержаны. [4] |
Изготовление накладных фотошаблонов представляет самостоятельную, достаточно сложную задачу, поскольку размеры окон в настоящее время нередко составляют всего несколько микрон, а следовательно, края зтих окон должны выполняться с еще большей точностью. Цикл производства фотошаблонов ( рис. 4 - 56) начинается с вычерчивания оригинала в масштабе 200: 1 и более по отношению к реальным размерам будущего рисунка. Такое вычерчивание ( или чаще, выцарапывание на тонком непрозрачном слое) осуществляется на специальных прецизионных установках - координатографах. [5]
Способы уменьшения поперечного сопротивления коллекторного слоя с помощью низкоомных шунтов. [6] |
Изготовление накладных фотошаблонов представляет самостоятельную, достаточно сложную задачу, поскольку размеры окон з настоящее время нередко составляют всего несколько микрон, 1 следовательно, края этих окон должны выполняться с еще большей точностью. Цикл производства фотошаблонов начинается с вычерчи-зания оригинала в масштабе 200: 1 и более по отношению к реальным азмерам будущего рисунка. Такое вычерчивание ( или, чаще, выца-апывание на тонком непрозрачном слое) осуществляется на специаль-шх прецизионных установках - координатографах. Далее следует громежуточный отсъем - фотографирование оригинала с уменыие-шем размеров в 20 - 40 раз. [7]
Для изготовления фотошаблона этим методом гравируют или вычерчивают один элемент в масштабе 300: 1 и от-снимают его. [8]
Для изготовления групповых фотошаблонов методом контактной печати разработан мультипликатор [78] с погрешностью мультиплицирования 0 005 мм. [9]
Координатограф для вычерчивания оригиналов. [10] |
Процесс изготовления фотошаблонов состоит из следующих основных операций: вычерчивание оригиналов, первое уменьшение ( изготовление промежуточных негативов), второе уменьшение и получение многократно повторяющихся рисунков ( эта операция называется мультипликацией), изготовление рабочих копий фотошаблонов с эталонного комплекта. [11]
Процесс изготовления фотошаблонов для микросхем с малой и средней степенями интеграции начинается с вычерчивания фотооригиналов - послойных топологических чертежей одной микросхемы, выполненных в увеличенном масштабе ( например, 500: 1) с большой точностью с помощью специальных устройств - координатографов, работающих в автоматическом режиме в соответствии с управляющей программой, задаваемой ЭВМ. Размер фотооригинала доходит до 1 м при точности вычерчивания линий 25 мкм. [12]
Схема процессов изготовления фотошаблонов. [13] |
Технология изготовления фотошаблонов является одним из наиболее сложных процессов в микроэлектронике, и такие технико-экономические показатели в производстве ИМС, как процент выхода годных изделий, производительность, стоимость, сроки от разработки до перехода к серийному производству, во многом определяются качеством фотошаблонов, трудоемкостью и стоимостью их проектирования и изготовления. [14]
Операция изготовления фотошаблона фокусатора на литографе или лазерном фотопостроителе предполагает использование декартовых или полярных координат. [15]