Cтраница 3
После снятия задубленного фоторезиста и лака маски отжигают в печи, вновь покрывают лаком, сушат, подвергают химическому травлению, удаляют лак и осветляют. Такая высокая точность в основном связана с тем, что граница маски в данном случае образуется биметаллом, который не подвергается химическому травлению. Вместе с тем наличие плотной основы обеспечивает жесткость биметаллических масок. [31]
Изменение размеров элементов маски из-за растравливания значительно уменьшается при изготовлении биметаллических масок. Биметаллические маски состоят из двух слоев металла. Один слой толщиной порядка 100 мкм служит основой и обеспечивает жесткость и механическую прочность маски. Другой, относительно тонкий слой является образующим и обеспечивает высокую точность воспроизводимого рисунка. Металл для основного слоя биметаллических масок должен химически растворяться в растворителях, не действующих на образующий слой. [32]