Заряжение - поверхность
Cтраница 1
Заряжение поверхности должно оказывать влияние на кинетику каталитических и адсорбционных процессов. Экспериментальные данные показывают, что для адсорбции, идущей с обогащением полупроводника носителями тока, зависимость работы выхода от заполнения близка к логарифмической, а для адсорбции, идущей с истощением, - линейна. [1]
Заряжение поверхности полупроводника вызывает возникновение разности потенциалов между его поверхностью и объемом. Следствием этого является искривление энергетических зон у поверхности. При заряжении поверхности отрицательным зарядом энергетические зоны изгибаются вверх, так как при перемещении электрона из объема к поверхности его энергия увеличивается. При заряжении поверхности положительным зарядом зоны изгибаются вниз. [2]
 |
Изменение заряжения поверхности катализатора при адсорбции пропилена и кислорода. [3] |
Заряжение поверхности катализатора при адсорбции компонентов реакции и образование заряженных промежуточных форм, ведущих катализ, оказывают влияние на скорости отдельных стадий превращения углеводородов. [4]
 |
Структура поверхностного слоя германия ( а и расположение быстрых и медленных поверхностных состояний ( изгиб зон у поверхности непоказан ( б. [5] |
Заряжение поверхности полупроводника при заполнении поверхностных состояний сопровождается возникновением у поверхности слоя объемного заряда, нейтрализующего поверхностный заряд. Нейтрализация происходит путем притяжения к поверхности носителей-со знаком заряда, противоположным знаку заряда поверхности, и отталкивания носителей одного знака. Поэтому поверхностный слой-полупроводника оказывается обедненным носителями одного звнака; со знаком поверхностного заряда и обогащенным носителями противоположного знака. [6]
 |
Изгиб зон у полупроводника n - типа при заря-жсинп поверхности отрицательным ( а и положительным ( б знаком. [7] |
Заряжение поверхности полупроводника вызывает возникновение разности потенциалов между поверхностью и объемом полупроводника и, следовательно, искривление энергетических зон. [8]
Установлено заряжение поверхности и образование фазовых слоев в изученных системах. Предполагается, что при низких давлениях имеет место поверхностная диссоциация цо2 с последующим образованием окислов при давлениях порядка Кгторр диссоциация но2 затруднена, что способствует образование солей. Основные закономерности взаимодействия металлов с ш2 согласуются с теоретическими моделями окисления Карберн-Мотта и Яяга-Дигнама. [9]
Эффект заряжения поверхности после разъединения контакта адгезионной пары обнаруживает следующие закономерности. Поверхность, образованная функциональными группами - донорами, заряжается положительно, в то время как поверхность, образованная группами-акцепторами, дает отрицательный знак заряда. Таким образом, понятие донор и акцептор можно относить также и к макроповерхностям, если в адгезионный контакт приводятся два полимера. Опыт показывает, что отрицательно заряженная поверхность при исследовании в вакууме 10 - 4 мм рт. ст. обнаруживает эмиссию быстрых электронов. [10]
Влияние заряжения поверхности должно, в общем случае, выражаться в изменении свободной энергии процессов, связанных с электронными переходами, и в изменении реакционной способности адсорбированных частиц в результате ионизации и поляризации связей. Такой эффект может сказываться на характере кинетической зависимости, величинах констант скорости реакции, энергии активации, констант скорости адсорбции, десорбции и констант адсорбционного равновесия. [11]
Влияние заряжения поверхности полупроводника может сказываться и при адсорбции смесей нескольких веществ. Такой эффект будет восприниматься как взаимное влияние адсорбированных частиц, что может приводить и к сверхэквивалентному вытеснению с поверхности одних веществ другими. В работе [1297] предполагается, что активными центрами адсорбции на окиси цинка являются возбужденные электроны примесных уровней, причем часть энергии адсорбции расходуется на возбуждение их в валентной зоне. [12]
Описанное выше заряжение поверхности удобно представить как процесс, идущий в две стадии. На первой стадии происходит гидроксилирование вновь образованной поверхности, которое состоит в том, что ионы гидроксила и ионы водорода из раствора соединяются соответственно с металлическими ионами и ионами кислорода твердого тела, имеющими разорванные ионные связи. Тем самым на поверхности создаются ионогенные группы, представляющие собой соединения атома металла с гидроксильны-ми группами ОН -, и насыщаются все заряженные центры поверхности. На второй стадии, на которой собственно и происходит заряжение, ионогенные группы диссоциируют или как кислоты с отрывом Н, заряжая поверхность отрицательно, или как основания с отрывом ОН -, сообщая поверхности положительный заряд. [13]
 |
Изменение ф-потенциала поверхности при ее перезарядке. [14] |
Этот пример заряжения поверхности характерен для малорастворимых соединений, не проявляющих кислых или основных свойств. В рассмотренной выше системе потепцналопределягощнми ионами являются, в соответствии с правилом Фаянса - Панета, ионы, входящие в состав соединения. [15]
Страницы: 1 2 3 4 5