Cтраница 4
В полифункциональных фоторезистах, например использующих полученный фоторельеф для создания контактных площадок или последующей высокотемпературной диффузии, описано применение в качестве светочувствительных компонентов элементоргани-ческих арилазидов, их поглощение может лежать в области 250 - 400 нм. В качестве полимерной основы слоев могут быть использованы бутадиен-стирольный, хлоропреновый и натуральный каучуки; циклокаучуки, полученные циклизацией полиизопрена, полибутадиена, полигексадиена в присутствии различных катализаторов; поли-4 - метилизопропенилкетон; феноло - и крезоло-фор-мальдегидные смолы. В водорастворимых слоях используют смеси ПВП и ПВС; сополимеры акриламида, диацетонакриламида и различных виниловых мономеров; поли-4 - винилфенол, полиакрил-амид, желатину, гуммиарабик, камеди. Для придания слоям повышенной термостойкости добавляют полиамидокислоты с последующей имидизацией или вводят, например, в циклокаучуки трифторметильные группы. Растворителями служат толуол, ксилол, циклогексанон, их смеси; часто используют такие сильные растворители как ДМАА, ДМФА, дихлорэтан; для композиций, содержащих водорастворимые азиды, применяют различные спирты, водный метилэтилкетон. [46]
В полифункциональных фоторезистах, например использующих полученный фоторельеф для создания контактных площадок или последующей высокотемпературной диффузии, описано применение в качестве светочувствительных компонентов элементоргани-ческих арилазидов, их поглощение может лежать в области 250 - 400 нм. В качестве полимерной основы слоев могут быть использованы бутадиен-стирольный, хлоропреновый и натуральный каучуки; циклокаучуки, полученные циклизацией полиизопрена, полибутадиена, полигексадиена в присутствии различных катализаторов; поли-4 - метилизопропенилкетон; феноло - и крезоло-фор-мальдегидные смолы. В водорастворимых слоях используют смеси ПВП и ПВС; сополимеры акриламида, диацетонакриламида и различных виниловых мономеров; полн-4 - винилфенол, полиакрил-амид, желатину, гуммиарабик, камеди. Для придания слоям повышенной термостойкости добавляют полиамидокислоты с последующей имидизацией или вводят, например, в циклокаучуки трифторметильные группы. Растворителями служат толуол, ксилол, циклогексанон, их смеси; часто используют такие сильные растворители как ДМАА, ДМФА, дихлорэтан; для композиций, содержащих водорастворимые азиды, применяют различные спирты, водный метилэтилкетон. [47]
Примерами этих трех механизмов являются, соответственно: г) гид ] лиз арилдеазониевых солей в фенолы [53]; б) реакции арилдаазон вых ионов с К с образованием арилазидов [54]; в) реакция За. Синтетически важные реакции замещения рассв трены в следующих разделах. [48]
Арилазиды при этих условиях достаточно устойчивы, если только нуклеофильное замещение азидогруппы не облегчено наличием сильной электронооттягивающей группы. Арилазиды реагируют с соляной кис лотой. [49]
В другой реакции используют арилдиазониевые ионы и азиды щелочных металлов. Арилазиды образуются с хорошим выходом. [50]