Химическое осаждение

Cтраница 1

Схема термовакуумного осаждения тонких пленок. [1]

Химическое осаждение - осаждение металла, восстанавливаемого из его соли у поверхности покрываемого металла ( а иногда и диэлектрика); получают покрытия из никеля, золота, серебра, палладия. [2]

Растворимость кислорода воздуха в воде, мг / л, при давлении 760 мм рт. ст. [3]

Химическое осаждение применяется также для удаления из раствора других нежелательных ионов, таких, как железо и марганец. [4]

Химическое осаждение с использованием в качестве коагулянтов солей алюминия и железа, а также извести представляет собой эффективный способ удаления фосфора. Хотя происходящие при коагуляции реакции сложны и их механизм выяснен не полностью, основным процессом здесь следует считать соединение ортофосфатов с катионами металлов. По-видимому, выведение полифосфатов и органических фосфорных соединений происходит вследствие их улавливания или адсорбции хлопьями. [5]

Химическое осаждение из паровой фазы по существу состоит в том, что подложку подвергают воздействию паров одного или нескольких соединений либо воздействию реакцион-носпособных газов, часть которых, а возможно, и все составляющие паровой фазы являются компонентами осаждаемого вещества. Продукт химической реакции, протекающей вблизи подложки или на ее поверхности, выделяется в виде твердой фазы и конденсируется на подложке. Для активации химической реакции применяют тепловое воздействие, высокочастотное электромагнитное поле, свет или рентгеновское излучение, электрический дуговой разряд, электронную бомбардировку или используют подложки с каталитически активной поверхностью. Следует подчеркнуть, что морфология осаждаемого слоя в значительной степени зависит от типа химической реакции и способа ее активации. [6]

Химическое осаждение основано на выравнивании зарядов коллоидных частиц сточных вод. Соединение частиц в более крупные агрегаты обычно тормозится одноименными электрическими зарядами. Однако если прибавить противоположно заряженные ионы или коллоиды, то наступает выравнивание зарядов, достигается изоэлектрическая точка и происходит осаждение веществ. Это приводит к полному осветлению сточной воды. [7]

Химическое осаждение производится солями железа, алюминия, иногда совместно с двуокисью кремния. При непрерывном процессе осаждения ( преимущественно на больших предприятиях) необходимы следующие сооружения: бассейн для смешивания воды, снабженный мешалкой с 1-часовым периодом пребывания; дозировочное устройство, приспособленное к количествам сточных вод; бассейн для последующего осветления с 90-минутным временем пребывания. При периодическом процессе осаждения ( преимущественно на небольших кожевенных заводах) применяются упомянутые в разделе III отстойники. [8]

Химическое осаждение, которое дает низкие результаты очистки сточных вод. При высоких концентрациях СПАВ этот метод вообще не применим. [9]

Химическое осаждение используется лишь в двух случаях: 1) для декоративного покрытия железных и стальных изделий; 2) для временной защиты стальных листов или проволоки и обеспечения улучшения скольжения во время волочения и прессования. [10]

Химическое осаждение можно получить автокаталитически, когда металлическое покрытие осаждается на металлической или активированной металлом поверхности, а его толщина увеличивается более или менее линейно до тех пор, пока поддерживается равновесное по составу состояние раствора. Растворы этого вида обычно называют растворами химического восстановления. К металлам, которые могут осаждаться автокаталитически, относятся медь, никель, железо, кобальт, серебро, золото, платина и палладий. [11]

Химическое осаждение слоев никеля [15], олова [16] и платины [17] не нашло еще широкого применения в лабораторной практике. [12]

Химическое осаждение, которое дает низкие результаты очистки сточных вод. При высоких концентрациях СПАВ этот метод вообще не применим. [13]

Химическое осаждение чаще используется для щелочных растворов. Из карбонатных и бикарбонатных растворов уран может быть легко выделен добавлением едкого натра, так как при увеличении рН осаждаются уранаты и полиуранаты. [14]

Химическое осаждение применяют вместо электролитического в случае высокоомных материалов. [15]

Страницы: 1 2 3 4