Химическое осаждение - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 4
Закон Митчелла о совещаниях: любую проблему можно сделать неразрешимой, если провести достаточное количество совещаний по ее обсуждению. Законы Мерфи (еще...)

Химическое осаждение

Cтраница 4


Для химического осаждения золота предложены щелочные и кислые растворы. Щелочной цианидный раствор с бораном натрия или калия в качестве восстановителя весьма стабилен в эксплуатации, допускает многократное использование при соответствующем корректировании, прежде всего, по золоту и восстановителю. Один из таких растворов содержит ( г / л): 6 KAu ( CN) 2, 6 5 KCN, 7 NaOH, 0 4 NaBH4, процесс идет при 75 С. Боран натрия может быть заменен диметиламинобораном. Скорость осаждения на никелевой или кобальтовой основе выше, чем на золоте, что связывают с их различной каталитической активностью, влияющей на процесс окисления борогидрида натрия. Попытка заменить циа-нидные растворы, как это имеет место в гальванотехнике, на железистосинеродистые, показали, что хотя в них можно получать доброкачественные покрытия, но срок эксплуатации небольшой.  [46]

Для химического осаждения кобальта при изготовлении магнитных покрытий чаще всего применяют восстановление солей двухвалентного кобальта гипофосфитом натрия в щелочных растворах.  [47]

Метод химического осаждения стеклянных покрытий подобен процессам эпитаксиального выращивания слоев на кремниевом кристалле и основан на пиролитическом разложении, окислении и гидролизе. Реакция протекает на поверхности подложки, которая нагревается до температуры, превышающей температуры всех остальных частей аппаратуры для осаждения.  [48]

49 Технологическая схема карбонизации алюминатного раствора по. пособу спекания мокрой шихты. [49]

Процесс химического осаждения гидроксида алюминия про-екает, согласно Жевноватому ( 1955 г.) в результате двух парал -: ельных химических взаимодействий.  [50]

Своеобразие химического осаждения тонких пленок металлов на диэлектрики не исчерпывается особенностями их получения. Отличительной чертой образования пленок из растворов I и II является т, что оно происходит в таких условиях, когда вследствие малой концентрации максимально достижимый поток ионов восстанавливаемых металлов к каталитической поверхности значительно меньше соответствующих диффузионных потоков других компонентов. Однако это обстоятельство само по себе еще Не дает оснований шлагать, что скорость процесса всегда лимитируется доставкой ионов металла в зону реакции, хотя такая возможность и не исключена.  [51]

При химическом осаждении из паровой фазы происходит введение в камеру с образцами паров заданного состава, создаваемых на независимой стадии процесса, и их взаимодействие с поверхностью деталей. Основное преимущество метода по сравнению с твердофазным диффузионным насыщением из засыпок заключается в том, что он позволяет наносить покрытия на поверхности внутренних каналов змеевиков охлаждения аэродинамических элементов с пленочным охлаждением. Пары могут прогоняться насосами через внутренние каналы, обеспечивая получение однородных покрытий хорошего качества даже при очень сложной геометрии этих каналов. Другим преимуществом метода химического осаждения из паровой фазы является гибкость его управления, позволяющая формировать паровую фазу нужного состава.  [52]

При химическом осаждении в камеру, где помещается подложка, по различным трубопроводам подают газообразные реагенты. В результате химической реакции выделяются молекулы металла или его солей, которые и осаждаются на подложке. Ненужные продукты реакции откачиваются.  [53]

На химическом осаждении известью основан метод предварительной очистки, предложенный институтом биохимии, технологии и продовольственной химии в Граце.  [54]

При химическом осаждении из газовой фазы ( ХОГФ или CVD - chemical vapor deposition) состав газовый фазы и состав осадка существенно различаются. Летучее соединение осаждаемого элемента подается к подложке, где подвергается термическому разложению ( пиролизу) или вступает в восстановительные химические реакции с другими газами ( или парами); при этом нелетучие продукты реакций осаждаются на поверхность подложки. Осадки образуются в результате большого количества химических реакций, протекающих в газовой фазе вблизи от поверхности подложки и на самой поверхности подложки, что в значительной мере усложняет процесс осаждения, но делает его гораздо более универсальным и гибким.  [55]



Страницы:      1    2    3    4